特許

J-GLOBAL ID：200903028129801430

排水処理装置

発明者： 高原 俊夫 ,  橋口 功
出願人/特許権者： 東芝プラント建設株式会社
代理人 (1件)： 窪田 卓美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-042315
公開番号（公開出願番号）：特開2003-236561
出願日： 2002年02月19日
公開日（公表日）： 2003年08月26日
要約：

【要約】【課題】 セメントの未水和物を含む排水を濾過部で処理する際、そのフィルタ部分における未水和物の結晶成長や炭酸カルシウムの析出を防止する。【構成】 排水供給源20と濾過部21の間に熱交換器28と排ガスによる気液接触式の加熱装置29を直列に設け、その加熱装置29の出口側に前記未水和物の水和反応を進行させる滞留部26を設ける。排水は熱交換器28で濾過部21から排出される清浄且つ高温の処理水と熱交換した後、加熱装置29で更に加熱されると共に二酸化炭素を供給され、水和および炭酸化の反応性を高められた状態で滞留部26に流入する。

請求項（抜粋）：

セメントの未水和物を含む排水を排水供給源20から濾過部21に供給して処理する装置において、排水供給源20と濾過部21の間に排水を滞留させて前記未水和物の水和反応を進行する滞留部26を設け、排水を排水供給源20から滞留部26を介して濾過部21に供給するように構成したことを特徴とする排水処理装置。

IPC (5件)：

C02F 1/58 ,  C02F 5/08 ,  F23G 7/04 601 ,  F23G 7/04 ZAB ,  F27D 17/00 101

FI (5件)：

C02F 1/58 J ,  C02F 5/08 A ,  F23G 7/04 601 D ,  F23G 7/04 ZAB ,  F27D 17/00 101 Z

Fターム (13件)：

4D038AA08 ,  4D038AB59 ,  4D038BA04 ,  4D038BB01 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18 ,  4K056AA08 ,  4K056AA19 ,  4K056DA02 ,  4K056DA22 ,  4K056DA31 ,  4K056DB05 ,  4K056FA08