特許
J-GLOBAL ID：200903028145731612
リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-291660
公開番号（公開出願番号）：特開2007-129218
出願日： 2006年10月26日
公開日（公表日）： 2007年05月24日
要約：
【課題】レチクルとレチクルステージとの間のスリップが原因となる位置誤差を修正すること。【解決手段】リソグラフィ装置は、パターニングデバイスを保持するパターン支持体を有する。少なくとも1つの位置センサは、パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置を測定し、測定信号を発生させる。位置決め装置は、該位置決め装置に入力された測定信号に基づいてパターン支持体の位置を制御する。対応するデバイス製造方法においては、パターン支持体を設ける。パターニングデバイスをパターン支持体上に保持する。パターン支持体を移動ラインに沿って移動させる。パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置を測定し、パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置の測定に基づいて、パターン支持体の位置を制御する。従って、パターン支持体の位置の制御により、パターン支持体に対するパターニングデバイスのスリップが補正される。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
パターニングデバイスを保持するよう構成され、移動ラインに沿って移動可能なパターン支持体と、
パターン支持体に対するパターニングデバイスの位置を測定し、測定信号を発生するよう構成された少なくとも1つの位置センサと、
パターニングデバイスに入力された測定信号に基づいてパターン支持体の位置を制御するよう構成された位置決め装置と、
を備えるリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515F
, G03F7/20 521
5F046BA03
, 5F046CB17
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC09
, 5F046CC13
, 5F046CC16
, 5F046DA06
, 5F046DB01
, 5F046DB05
, 5F046DC05
