特許
J-GLOBAL ID：200903028186849318
チタン製磁気デイスク基板の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-151683
公開番号（公開出願番号）：特開平5-002745
出願日： 1991年06月24日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：
【要約】【構成】チタン板の全面に亘り円周方向に沿って微細なテクスチャリング加工を施し、次いでその表面に陽極酸化処理を施してチタン製磁気ディスク基板を得る。【効果】磁気ヘッドの浮上量が0.1μm以下、例えば0.075μmであっても、CSS特性を極めて良好にすることができ、しかもしかもその上に形成される磁性膜に対して磁気的異方性を付与することができるチタン製磁気ディスク基板の製造方法が提供される。
請求項（抜粋）：
チタン板の全面に亘り円周方向に沿って微細なテクスチャリング加工を施し、次いでその表面に陽極酸化処理を施すことを特徴とするチタン製磁気ディスク基板の製造方法。
IPC (2件)：
G11B 5/84
, C25D 11/26 302
