特許
J-GLOBAL ID：200903028193224684
光学装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
雨宮 正季
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-268404
公開番号（公開出願番号）：特開平5-078137
出願日： 1991年09月19日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 母材中で適当な大きさを有す半導体微粒子あるいは微結晶を成長させることにより、光学スペクトル上に量子サイズ効果による励起子吸収、サブバンド吸収を供給し、さらに微粒子サイズ、微粒子配列、配列間隔を制御し、線形特性の改善のみならず、より大きな非線形光学効果を実現する光学装置の製造方法を提供する。【構成】 使用する微粒子若しくは微結晶のもとになる原材料が含まれている母材1に、電子線照射領域を一定の規則に従う距離毎に指定して、点状、線状、または面状の限られた前記領域に電子線2入射を行ない、局部的に微粒子、若しくは微結晶3を成長させたことを特徴とする。【効果】 ドーパントの微粒子の大きさにより、従来のガラスでは得ることができなかった、さらに急峻なスペクトル構造、局所的な吸収線が、薄いサンプルにおいてもガラスを用いて実現できる。
請求項（抜粋）：
使用する微粒子若しくは微結晶のもとになる原材料が含まれている母材に、電子線照射領域を一定の規則に従う距離毎に指定して、点状、線状、または面状の限られた前記領域に電子線入射を行ない、局部的に微粒子、若しくは微結晶を成長させたことを特徴とする光学装置の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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