特許
J-GLOBAL ID：200903028200422276

少量液体の噴霧装置

発明者：
島田 隆治

島田 隆治 について


出願人/特許権者：
ノードソン株式会社

ノードソン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-214144
公開番号（公開出願番号）：特開2009-028701
出願日： 2007年07月24日
公開日（公表日）： 2009年02月12日
要約：
【課題】 半導体シリコーンウェハー、ガラス基板等の被塗物に、液状フォトレジスト剤、表面保護膜、機能性塗布剤等の液体を極微細に霧化させて塗布し、薄い成膜形成を可能とする少量液体の噴霧装置を提供する。【解決手段】 液体吐出時にニードル移動量調整装置2Cにより針状ニードル先端部8Aと第1ノズル孔7aとの開き間隙を極微小量調整し、第1ノズル孔7aからニードル先端部8Aに沿って液体を滲み出させながら第1霧化用圧縮気体通路5Aを流れる第1霧化用圧縮気体によって該液体を微粒化させつつ第2ノズル孔9aから噴出させ、該噴出流を第3ノズル孔10aを通して噴出させつつ第3ノズル10の第2霧化用兼渦巻流形成用圧縮気体を該噴出流に衝突させることにより、該噴出流をさらに微粒化させると共に旋回かつ拡散せしめ被塗物に塗布する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
小量の液体を微粒化して被塗物に塗布する噴霧装置であって、 液体供給通路と、 先端部が針状で長細く尖った極細のニードルと、 該ニードルの該先端部との間で弁機構を構成し、該ニードル先端部に対応した形状の極細の第1ノズル孔を有し、該ニードル先端部が該第1ノズル孔に対して挿抜自在に嵌合可能である第1ノズルと、 該第1ノズルの周囲を取り囲んで第1ノズルとの間で環状の第1霧化用圧縮気体通路を形成し、下端に小口径の第2ノズル孔を形成した第2ノズルと、 該第2ノズル下端部に、該第2ノズルの第2ノズル孔を取り囲むようにして第3ノズルの第3ノズル孔が形成され、該第3ノズル孔の周囲に第2霧化用兼渦巻流形成用の複数の圧縮気体供給通路を形成した第3ノズルと、 該ニードルの後端部と当接可能に設けられ、該針状ニードル先端部と該第1ノズルの第1ノズル孔との開き間隙を極微小量調整可能なニードル移動量調整装置と、を備え、液体吐出時に第1ノズルの第1ノズル孔から該ニードル先端部に沿って液体を滲み出させながら該第1霧化用圧縮気体通路を流れる第1霧化用圧縮気体によって微粒化させつつ第2ノズルの第2ノズル孔から噴出させ、つぎに該噴出流を第3ノズルの第3ノズル孔を通して噴出させつつ第2霧化用兼渦巻流形成用圧縮気体を該噴出流に衝突させることにより、該噴出流をさらに微粒化させると共に旋回かつ拡散せしめ、被塗物に塗布することを特徴とする少量液体の噴霧装置。
IPC (1件)：
B05B 7/10
FI (1件)：
B05B7/10
Fターム (9件)：
4F033QA01 ,  4F033QB02 ,  4F033QB03 ,  4F033QD05 ,  4F033QD08 ,  4F033QD15 ,  4F033QD19 ,  4F033QE13 ,  4F033QE16
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 液体のスプレイ方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-294254   出願人：ノードソン株式会社
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM