特許

J-GLOBAL ID：200903028200732402

金属ウエブの洗浄用スプレー装置及び洗浄方法

発明者： 山崎 徹
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-290790
公開番号（公開出願番号）：特開2003-096584
出願日： 2001年09月25日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
要約：

【要約】【課題】 金属ウエブを全幅に亘って薄膜カーテン状の水流により均等に洗浄し、かつ金属ウエブに洗浄ムラを生じさせるような洗浄能力の低下を長期的に防止する。【解決手段】 洗浄槽14内では、先ず、オーバーフロー型のスプレー装置18により形成された水流をエッチング溶液が付着したアルミウエブ12の表面に浴びせ、この水流によりアルミウエブ12の表面を洗浄(初期洗浄)する。このとき、スプレー装置18が洗浄水をアルミウエブ12よりも広幅とされた薄膜カーテン状の水流に整流し、この水流をアルミウエブ12の全幅に亘って浴びせる。これにより、アルミウエブ12の表面を全幅に亘って均等にムラなく洗浄できるので、初期洗浄後のアルミウエブ12の表面に残留するエッチング溶液の十分低濃度に希釈すると共に、アルミウエブ12の表面全体におけるエッチング溶液の濃度差を十分に小さくできる。

請求項（抜粋）：

長尺帯状の金属ウエブへ向かって流れる水流を形成し、該水流により金属ウエブを洗浄する金属ウエブの洗浄用スプレー装置であって、洗浄水流を形成するための洗浄水を貯え、該洗浄水の水位が所定のオバーフロー水位よりも高くなると洗浄水を流出させるオーバーフロー部が設けられた貯水タンクと、前記貯水タンク内における水位が前記オバーフロー水位よりも高位に保たれるように貯水タンク内に洗浄水を供給する給水手段と、下方へ向かって開いた略U字状に湾曲され、その基端側の一部が洗浄水中に浸漬するように前記オーバーフロー部に取り付けられると共に、該基端部から先端部へ向かって金属ウエブを指向する整流面が形成され、前記オーバーフロー部から流出した洗浄水を前記整流面により金属ウエブよりも広幅とされた薄膜カーテン状の水流に整流し、該水流を前記整流面の先端部から金属ウエブへ向かって落下させる整流板と、を有することを特徴とする金属ウエブの洗浄用スプレー装置。

IPC (3件)：

C23G 3/02 ,  B08B 3/02 ,  B41N 3/06

FI (3件)：

C23G 3/02 ,  B08B 3/02 C ,  B41N 3/06

Fターム (25件)：

2H114AA04 ,  2H114AA14 ,  2H114DA04 ,  2H114GA02 ,  2H114GA27 ,  2H114GA31 ,  2H114GA35 ,  3B201AA08 ,  3B201AB13 ,  3B201BB04 ,  3B201BB87 ,  3B201BB90 ,  4K053PA10 ,  4K053PA12 ,  4K053QA06 ,  4K053RA07 ,  4K053SA05 ,  4K053SA07 ,  4K053XA21 ,  4K053XA22 ,  4K053XA46 ,  4K053XA50 ,  4K053YA04 ,  4K053YA30 ,  4K053ZA10