特許

J-GLOBAL ID：200903028208928500

プラズマ重合薄膜およびその形成方法

発明者： 小林 秀樹 ,  西海 航
出願人/特許権者： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-256156
公開番号（公開出願番号）：特開平8-092372
出願日： 1994年09月26日
公開日（公表日）： 1996年04月09日
要約：

【要約】【目的】 優れた撥水性を有する新規なプラズマ重合薄膜、およびその形成方法を提供する。【構成】 一般式:【化1】で表されるオルガノシラン化合物またはオルガノシロキサン化合物等の一分子中に、少なくとも1個のケイ素原子結合水素原子と少なくとも1個の一般式:CmF(2m+1)-R1-で表されるケイ素原子結合有機基を有する有機ケイ素化合物(式中、R1は二価有機基であり、R2、R3は同種もしくは異種の炭素原子数1〜18の一価炭化水素基であり、aは1、2または3であり、mは4〜12の数である。)のプラズマ重合薄膜、およびその形成方法。

請求項（抜粋）：

一分子中に、少なくとも1個のケイ素原子結合水素原子と少なくとも1個の一般式:CmF(2m+1)-R1-(式中、R1は二価有機基であり、mは4〜12の数である。)で表されるケイ素原子結合有機基を有する有機ケイ素化合物のプラズマ重合薄膜。

IPC (4件)：

C08G 77/06 NUG ,  C09D183/08 PMM ,  C23C 16/42 ,  C23C 16/50