特許
J-GLOBAL ID：200903028221782949
滑り止めタイル及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 容一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-267308
公開番号（公開出願番号）：特開平8-133876
出願日： 1994年10月31日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：
【要約】【目的】 滑り止め効果を長期間に亘って維持できるタイルを提供する。【構成】 り止めタイルは基材1上に凹凸釉薬層2を形成し、この凹凸釉薬層2の表面に0.1μm以上50μm以下の厚さのTiO2等の金属酸化物層3を形成している。そして、金属酸化物層3が形成された滑り止めタイル表面の凹凸部の中心線平均粗さ(Ra)と平均凸部間隔(Sm)との関係は、1.0≦100Ra/Sm≦5.0となっている。
請求項（抜粋）：
基材表面に凹凸部を有する釉薬層が形成され、この釉薬層の表面に略均一な厚さの金属酸化物層が形成され、この金属酸化物層が形成された凹凸部の中心線平均粗さ(Ra)と平均凸部間隔(Sm)とが、1.0≦100Ra/Sm≦5.0(カットオフ値=0.8μm)を満足する関係となっていることを特徴とする滑り止めタイル。
IPC (3件)：
C04B 41/89
, C04B 41/86
, E04F 15/08
