特許
J-GLOBAL ID:200903028237103901
導電膜及び低反射導電膜及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
泉名 謙治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-024426
公開番号(公開出願番号):特開平5-190091
出願日: 1992年01月14日
公開日(公表日): 1993年07月30日
要約:
【要約】【構成】導電性酸化ルテニウム粉末を分散したゾルを含む塗布液を基体上に塗布、加熱して導電膜を形成する。その上に、Siアルコキシドを含む液を塗布、加熱して低屈折率膜を形成し、2層からなる低反射導電膜を製造する。【効果】PVD法のように真空を要する大掛かりな設備を必要とせず、生産性良く低反射導電膜を製造できる。
請求項(抜粋):
導電性酸化ルテニウム微粒子が分散したゾルを含む塗布液を基体上に塗布した後加熱して酸化ルテニウムを主成分とする導電膜を形成することを特徴とする導電膜の製造方法。
IPC (2件):
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開昭61-024101
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特開平3-046737
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特公昭43-025211
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