特許

J-GLOBAL ID：200903028240955439

フォトマスク作画装置及び方法

発明者： 林田 憲史
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 岩佐 義幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-310189
公開番号（公開出願番号）：特開平11-143051
出願日： 1997年11月12日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：

【要約】【課題】 フォトマスクを作画する場合において、使用される工程の環境に起因する寸法伸縮による寸法精度悪化を防ぐ。【解決手段】 データ入力部1に登録される作画データに、使用される工程を表す属性情報を付加する。そして、作画室とフォトマスクが使用される工程の温湿度をパラメータ記憶部7から読み取り、スケールファクタ演算部2で最適のスケールファクタを算出する。さらに、作画データスケール補正部3にて、作画データに、スケールファクタ演算部2で算出されたスケールファクタを乗じ、データ処理部4にて、作画データをフォーマット変換して作画機械制御部5に供給し、作画機械制御部5の制御により、作画機械部6にて最適な寸法精度を有するフォトマスクが作画される。

請求項（抜粋）：

作画データを読み込むデータ入力部と、作画室及び作画されたフォトマスクが使用される各製造工程の環境情報等の各種のパラメータを格納するパラメータ記憶部と、前記パラメータ記憶部より前記パラメータを読み取り、前記作画室及び作画されたフォトマスクが使用される各製造工程の環境の差に基づいて、最適なスケールファクタを算出するスケールファクタ演算部と、前記スケールファクタ演算部にて算出されたスケールファクタに基づいて、前記作画データに所定の演算処理を施すデータスケール補正部と、前記データスケール補正部にて演算処理された作画データに基づき、前記フォトマスクを作画するための制御信号を出力する出力する作画機制御部と、前記作画機制御部より出力された制御信号に基づいてフォトマスクを作画する作画機械部と、を備えたことを特徴とするフォトマスク作画装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G06T 1/00 ,  H05K 3/00

FI (3件)：

G03F 1/08 A ,  H05K 3/00 E ,  G06F 15/62 K