プラズマ処理容器内部材およびその製造方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：小川順三 , 中村盛夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-331776
公開番号（公開出願番号）：特開2007-126752
出願日： 2006年12月08日
公開日（公表日）： 2007年05月24日
要約：

【課題】耐プラズマエロージョン性等に優れるプラズマ処理容器内部材と、その有利な製造方法とを提案する。【解決手段】プラズマ使用環境におけるハロゲンガス雰囲気下での化学的腐食による損傷ならびにプラズマエロージョンによる損傷の両方に対する大きな抵抗力が求められる基材の表面が、純度:95mass%以上の高純度Y2O3溶射皮膜によって被覆されているプラズマ処理容器内部品。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基材の表面が、純度:95mass%以上の高純度Y2O3溶射皮膜によって被覆されていることを特徴とする、プラズマ処理容器内部材。

IPC (3件)：

C23C 4/10 , C23C 4/12 , H01L 21/306

FI (3件)：

C23C4/10 , C23C4/12 , H01L21/302 101G

Fターム (11件)：

4K031AA01 , 4K031AB03 , 4K031AB09 , 4K031CB14 , 4K031CB42 , 4K031DA04 , 4K031EA10 , 5F004AA15 , 5F004BD04 , 5F004DA00 , 5F004DA17

引用特許：

審査官引用 (9件)

半導体製造用耐食性部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-155798 出願人：京セラ株式会社
特開平3-079749
プラズマ溶射法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-032082 出願人：三井造船株式会社

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