特許
J-GLOBAL ID：200903028287256555

高分子ゲル、及びその製造方法

発明者：
明石 量磁郎

明石 量磁郎 について

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小村 晃雅

小村 晃雅 について

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植松 高志

植松 高志 について

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川原 淳

川原 淳 について

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森山 正洋

森山 正洋 について


出願人/特許権者：
富士ゼロックス株式会社

富士ゼロックス株式会社 について


代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-046116
公開番号（公開出願番号）：特開2001-234086
出願日： 2000年02月23日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
要約：
【要約】【課題】酸性或いはイオン性高分子ゲル内部における粒子が、均一分散した高分子ゲル、及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 少なくとも一部の表面に非イオン性高分子を結合した粒子と、酸性或いはイオン性高分子ゲルと、を含有してなることを特徴とする高分子ゲル、及び、少なくとも一部の表面に非イオン性高分子を結合した粒子と、酸性或いはイオン性モノマと、架橋モノマと、を混合して分散溶液を調整し、重合せしめる、或いは、少なくとも一部の表面に非イオン性高分子を結合した粒子と、酸性或いはイオン性高分子とを混合して分散溶液を調整し、架橋せしめることを特徴とする高分子ゲルの製造方法。
請求項（抜粋）：
少なくとも一部の表面に非イオン性高分子を結合した粒子と、酸性或いはイオン性高分子ゲルと、を含有してなることを特徴とする高分子ゲル。
IPC (7件)：
C08L101/14 ,  C08F 2/12 ,  C08J 3/02 ,  C08J 3/12 ,  C08J 3/24 CER ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/00
FI (7件)：
C08L101/14 ,  C08F 2/12 ,  C08J 3/02 A ,  C08J 3/12 A ,  C08J 3/24 CER Z ,  C08K 3/00 ,  C08K 5/00
Fターム (56件)：
4F070AA02 ,  4F070AA26 ,  4F070AA29 ,  4F070AA32 ,  4F070AA35 ,  4F070AA37 ,  4F070AB13 ,  4F070AC04 ,  4F070AC06 ,  4F070AC13 ,  4F070AC32 ,  4F070AC35 ,  4F070AC45 ,  4F070AC46 ,  4F070AC71 ,  4F070AD06 ,  4F070AE04 ,  4F070AE08 ,  4F070AE30 ,  4F070CA02 ,  4F070CB02 ,  4F070CB05 ,  4F070DA41 ,  4F070DA47 ,  4F070GA06 ,  4F070GB03 ,  4F070GC01 ,  4J002AB011 ,  4J002BE021 ,  4J002BG011 ,  4J002BG071 ,  4J002BG111 ,  4J002BG121 ,  4J002BH001 ,  4J002BQ001 ,  4J002DA036 ,  4J002DA076 ,  4J002DA086 ,  4J002DE046 ,  4J002DE106 ,  4J002DE136 ,  4J002DE236 ,  4J002DJ016 ,  4J002DJ036 ,  4J002EA066 ,  4J002EE056 ,  4J002EN076 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU026 ,  4J002FA086 ,  4J002FB266 ,  4J002FD096 ,  4J002FD206 ,  4J011JA13 ,  4J011JB14 ,  4J011JB25
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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