特許
J-GLOBAL ID:200903028295320831

吸収構造体、及び高ロフト材料上のマット成形による吸収構造体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 安達 光雄 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-542183
公開番号(公開出願番号):特表2000-511834
出願日: 1997年05月23日
公開日(公表日): 2000年09月12日
要約:
【要約】合成繊維(5)の高ロフト材料層(3)及びセルロース繊維(4)の吸収材料層(2)からなる吸収構造体(1)、及び吸収物品に使用するために意図される吸収構造体(1)の製造方法。二つの層は高ロフト材料(3)の穴に延びる吸収材料(2)の繊維(4)によって互いに一体化されることによって一緒に保持される。この方法では、吸収材料(2)はワイヤ(26)上に置かれる高ロフト材料(3)上に直接マット成形される。ワイヤ(26)の下には空気を下方に吸引する吸引ボックス(22)があり、繊維(4)は下方に吸引され高ロフト材料(3)中に侵入する。
請求項(抜粋):
おむつ、衛生ナプキン、パンティライナー、失禁パッド、ベッド保護体及びそれらの類似物品の如き吸収物品に使用するための、吸収材料層(2)及び高ロフト材料層(3)からなる吸収構造体(1)を製造するための方法において、セルロースパルプの繊維(4)からなる吸収材料層(2)が高ロフト材料層(3)上に直接マット成形されることを特徴とする方法。
IPC (7件):
B32B 5/26 ,  A61F 5/44 ,  A61F 13/00 ,  A61F 13/15 ,  A61F 13/45 ,  A61L 15/00 ,  D04H 1/42
FI (7件):
B32B 5/26 ,  A61F 5/44 H ,  A61F 13/00 351 F ,  A61L 15/00 ,  D04H 1/42 F ,  A61F 13/18 303 ,  A41B 13/02 B
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開平4-153351
  • 特開平3-227442
  • 特開平4-153351
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