特許
J-GLOBAL ID:200903028298559550
シタロプラムの製造方法、およびその中間体とその製造方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高島 一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-285077
公開番号(公開出願番号):特開2002-121189
出願日: 2000年09月20日
公開日(公表日): 2002年04月23日
要約:
【要約】【課題】 安価で、収率のよい、工業的に有用なシタロプラムの製造方法、およびシタロプラムの製造における鍵化合物である下記式[III]で表される化合物(化合物[III])の新規な製造方法を提供する。【解決手段】 N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミンおよび1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンから選ばれる少なくとも1つと縮合剤の存在下、下記式[VI]で示される化合物を3-(ジメチルアミノ)プロピルクロリドと反応させることによりシタロプラムを製造できる。また、下記式[II]で示される化合物を還元および環化することにより、簡便に化合物[III]を製造できる。【化1】
請求項(抜粋):
式[I]【化1】で示される化合物。
IPC (9件):
C07D307/87
, C07C 29/14
, C07C 33/46
, C07C 45/46
, C07C 49/813
, C07C 51/083
, C07C 51/265
, C07C 65/34
, C07B 61/00 300
FI (9件):
C07D307/87
, C07C 29/14
, C07C 33/46
, C07C 45/46
, C07C 49/813
, C07C 51/083
, C07C 51/265
, C07C 65/34
, C07B 61/00 300
Fターム (22件):
4H006AA01
, 4H006AA02
, 4H006AB84
, 4H006AC41
, 4H006AC44
, 4H006AC46
, 4H006BB11
, 4H006BB12
, 4H006BD70
, 4H006BE30
, 4H006BJ50
, 4H006BM30
, 4H006BM71
, 4H006BR60
, 4H006BS30
, 4H006FC52
, 4H006FE11
, 4H006FE73
, 4H006FE74
, 4H039CA42
, 4H039CH10
, 4H039CH20
前のページに戻る