特許
J-GLOBAL ID：200903028314334431
ガス精製装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金丸 章一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-004972
公開番号（公開出願番号）：特開平6-210120
出願日： 1993年01月14日
公開日（公表日）： 1994年08月02日
要約：
【要約】【構成】 ガスを昇圧する圧縮機2と、該圧縮機2により昇圧されたガスの一部を導入し精製する膜分離精製装置1と、前記昇圧ガスの残部及び膜分離精製装置1で精製された後に圧縮機2により昇圧されたガスを導入し精製する圧力スウィング吸着精製装置3と、該吸着精製装置3で精製されたガスを導入し更に精製する低温吸着ガス精製装置4とを有することを特徴とするガス精製装置。【効果】 原料ガスの不純物濃度や水分濃度が比較的高い場合でも、低温吸着ガス精製装置4の吸着機能が低下し難くて使用可能時間が長く、そのため長時間にわたってガス処理量が高水準に維持され、又、原料ガスの不純物濃度が変化しても精製後のガス(製品ガス)の不純物濃度が変化し難く、高純度の製品ガスが安定して得られ、更に、ガス処理量を大幅に増大し得て生産性を向上し得る。
請求項（抜粋）：
ガスを昇圧する圧縮機と、該圧縮機により昇圧されたガスの一部を導入し膜分離法により精製する膜分離精製装置と、前記昇圧されたガスの残部及び前記膜分離精製装置により精製された後に圧縮機により昇圧されたガスを導入し精製する圧力スウィング吸着精製装置と、該吸着精製装置により精製されたガスを導入し更に精製する低温吸着ガス精製装置とを有することを特徴とするガス精製装置。
IPC (2件)：
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