特許
J-GLOBAL ID:200903028318434538
ポリテトラフルオロエチレン多孔膜
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-196663
公開番号(公開出願番号):特開平5-202217
出願日: 1992年07月23日
公開日(公表日): 1993年08月10日
要約:
【要約】【目的】 半導体工業などのクリーンルームで使用される空気及び気体中の浮遊微粒子の捕獲に適し、空気及び気体の圧力損失の小さいエアフィルターとしての優れた新規なポリテトラフルオロエチレン多孔膜を提供する。【構成】 ポリテトラフルオロエチレン半焼成体を延伸したのちこれをポリテトラフルオロエチレン焼成体の融点以上の温度でヒートセットすることにより、走査型電子顕微鏡写真の画像処理によるフィブリルと結節の面積比が99:1〜75:25であり、平均フィブリル径が0.05μm〜0.2μmであり、結節の最大面積が2μm2以下であり、かつ平均孔径が0.2μm〜0.5μmであるポリテトラフルオロエチレン多孔膜を製造する。
請求項(抜粋):
ポリテトラフルオロエチレン半焼成体を延伸したのちこれをポリテトラフルオロエチレン焼成体の融点以上の温度でヒートセットしてなるポリテトラフルオロエチレン多孔膜であって、走査型電子顕微鏡写真の画像処理によるフィブリルと結節の面積比が99:1〜75:25であり、平均フィブリル径が0.05μm〜0.2μmであり、結節の最大面積が2μm2以下であり、かつ平均孔径が0.2μm〜0.5μmであることを特徴とするポリテトラフルオロエチレン多孔膜。
IPC (9件):
C08J 9/00 CEW
, B29C 55/12
, B32B 5/32
, B01D 71/36
, B29K 27:12
, B29K105:04
, B29K105:12
, B29L 7:00
, C08L 27:18
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