特許

J-GLOBAL ID：200903028318684828

放電プラズマを利用した薄膜形成方法

発明者： 日野 守 ,  林 秀樹 ,  中尾 整
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-288122
公開番号（公開出願番号）：特開2000-119860
出願日： 1998年10月09日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】 大気圧近傍の圧力下で、基材の表面に効率的に、且つ、放電プラズマ空間内の水分濃度に比較的影響されず、白濁することなくTiO2 薄膜を形成することのできる放電プラズマを利用した薄化形成方法を提供する。【解決手段】 大気圧近傍の圧力下で、チタン化合物を含むガス雰囲気中で、放電プラズマを発生させ、酸化チタン含有薄膜を形成する薄膜形成方法であって、上記チタン化合物が、該チタン化合物10mLに対し、1mLのイオン交換水を滴下したときのが白濁するまでの時間が1秒以上である。

請求項（抜粋）：

大気圧近傍の圧力下で、チタン化合物を含むガス雰囲気中で、放電プラズマを発生させ、酸化チタン含有薄膜を形成する薄膜形成方法であって、上記チタン化合物が、該チタン化合物10mLに対し、1mLのイオン交換水を滴下したときのが白濁するまでの時間が1秒以上であることを特徴とする放電プラズマを利用した薄膜形成方法。

IPC (2件)：

C23C 16/503 ,  C08J 7/00 306

FI (2件)：

C23C 16/50 A ,  C08J 7/00 306

Fターム (17件)：

4F073AA28 ,  4F073BA24 ,  4F073CA01 ,  4K030AA11 ,  4K030BA18 ,  4K030BA46 ,  4K030CA07 ,  4K030FA03 ,  4K030HA07 ,  4K030JA09 ,  4K030JA11 ,  4K030JA14 ,  4K030JA16 ,  4K030JA18 ,  4K030KA17 ,  4K030KA30 ,  4K030KA47