特許

J-GLOBAL ID：200903028357066864

X線露光装置及び露光方法

発明者： 豊田 英二郎
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 敬四郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-094634
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284220
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】 露光面上に所望の縞状の像を得ることが可能なX線露光装置を提供する。【解決手段】 X線源から放射され、X線マスクに到達するまでのX線の光路内に、フォトンエネルギに依存する吸収係数を有するフィルタが配置されている。X線マスクのマスクパターンが等間隔で平行に配置された複数のX線遮光領域を含み、隣り合う2つのX線遮光領域の間にX線透過領域が画定されている場合を考える。X線透過領域の中央に対応する露光面上のX線強度をPTとし、X線遮光領域の中央に対応する露光面上のX線強度をPSとする。フィルタのX線透過率のフォトンエネルギ依存性により、フィルタを配置した状態での|PS-PT|が、フィルタを取り除いた状態での|PS-PT|よりも大きくなる。

請求項（抜粋）：

X線を放射するX線源と、前記X線源から放射されたX線が伝搬する空間を画定し、該X線が出射する開口部を有する真空ダクトと、前記X線が出射する前記真空ダクトの開口部を塞ぎ、該真空ダクト内の真空を維持する窓部材と、X線で露光すべき露光面を有する処理対象物を、前記真空ダクトの前記開口部から出射したX線が該露光面を照射するように保持する処理対象物保持手段と、前記処理対象物保持手段に保持された処理対象物の露光面と、マスクパターンが形成されたX線マスクとが、ある間隙を隔てて配置されるように、前記X線マスクを保持するマスク保持手段と、前記X線源から放射され、前記マスク保持手段に保持されたX線マスクに到達するまでのX線の伝搬路内に配置され、フォトンエネルギに依存する吸収係数を有するフィルタとを有するX線露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503

FI (3件)：

G03F 1/16 A ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 531 A

Fターム (12件)：

2H095BA10 ,  2H095BB02 ,  2H097BA01 ,  2H097BA02 ,  2H097BB02 ,  2H097CA15 ,  2H097EA03 ,  2H097LA10 ,  5F046GA02 ,  5F046GB04 ,  5F046GB07 ,  5F046GC04