特許

J-GLOBAL ID：200903028364135235

フォトレジスト組成物

発明者： カール-ローレンツ・メルテスドルフ ,  ハンス-トーマス・シヤハト ,  ノルベルト・ムエンツエル ,  パスクアーレ・アルフレド・フアルチーニヨ
出願人/特許権者： オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-330236
公開番号（公開出願番号）：特開平8-253533
出願日： 1995年12月19日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：

【要約】【課題】 高い処理安定性と流動抵抗とを有するDUVフォトレジストのためのバインダーとして好適であるポリマーの提供。【解決手段】 このポリマーは式I〜IV【化1】(式中、R1、R2、R3およびR4は互いに独立して水素、メチルまたはハロゲンであり、R5およびR6は互いに独立してC1〜C6アルキル基であり、R7、R8、R9およびR10は互いに独立して水素、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基またはハロゲンであり、そしてw、x、yおよびzは1またはそれ以上の数であるが、ただし保護基を有する構成単位の総和を存在するすべての構成単位の総和で除して得ることのできる比率【数1】が0.10≦Q≦0.50である)で表される反復する構成単位を含み5,000〜1,000,000の平均分子量(重量平均)(ゲル透過クロマトグラフィーにより測定)を有する。

請求項（抜粋）：

式I〜IV【化1】(式中、R1、R2、R3およびR4は互いに独立して水素、メチルまたはハロゲンであり、R5およびR6は互いに独立してC1〜C6アルキル基であり、R7、R8、R9およびR10は互いに独立して水素、C1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基またはハロゲンであり、そしてw、x、yおよびzは1またはそれ以上の数であるが、ただし保護基を有する構成単位の総和を存在するすべての構成単位の総和で除して得ることのできる比率【数1】が0.10≦Q≦0.50である)の反復する構成単位を含む5,000〜1,000,000の平均分子量(重量平均)(ゲル透過クロマトグラフィーにより測定)を有するポリマー。

IPC (11件)：

C08F212/14 MJY ,  C08F216/10 MKV ,  C08F216/14 MKZ ,  C08F216/16 MKY ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/28

FI (11件)：

C08F212/14 MJY ,  C08F216/10 MKV ,  C08F216/14 MKZ ,  C08F216/16 MKY ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 501 ,  H05K 3/00 F ,  H05K 3/28 D ,  H01L 21/30 502 R