特許
J-GLOBAL ID:200903028390999604

硬化性ポリメチルシルセスキオキサンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-365048
公開番号(公開出願番号):特開2000-159889
出願日: 1996年08月13日
公開日(公表日): 2000年06月13日
要約:
【要約】【課題】 独立したフィルムとして使用するに充分な柔軟性を有し、膜状硬化物の膜厚によらず実用上問題となる程のクラックを有さず、引張り強度等の物性の優れたポリメチルシルセスキオキサン硬化物を与える硬化性ポリメチルシルセスキオキサンの製法を提供する。【解決手段】 前記硬化性ポリメチルシルセスキオキサンは、ポリスチレン換算分子量Mが380〜2000の範囲にあり、式:〔CH3 SiO3/2 n 〔CH3 Si(OH)O2/2 m (m,nは、上記分子量を与える正の数であって、0.034(M×10-3)≦m/(m+n)≦0.152/(M×10-3)+0.10である)で示され、トリメチルハロシランを、含酸素有機溶媒と水の懸濁状態にある2相系に滴下して、加水分解縮合を行って製造する。
請求項(抜粋):
ポリスチレン換算数平均分子量(M)が380から2000の範囲にあり、式〔CH3 SiO3/2 n 〔CH3 Si(OH)O2/2 m(m,nは上記分子量を与える正の数で、m/(m+n)の値は図1のA領域にある。このA領域は、横軸が1/(M×10-3)、縦軸がm/(m+n)で表される図1のグラフにおいて、次の式1〜4で表される各直線によって囲まれる領域であり、各直線上も含み、また各直線の交点も含むものである。(式1):m/(m+n)=0.152/(M×10-3)+0.10(式2):1/(M×10-3)=1,000/2,000(式3):1/(M×10-3)=1,000/380(式4):m/(m+n)=0.034/(M×10-3))で示される硬化性ポリメチルシルセスキオキサンの製造方法であって、(イ)含酸素有機溶媒又は(ロ)含酸素有機溶媒とこの有機溶媒に対し50容量%以下の炭化水素溶媒とを含む混合溶媒と、水とを反応器に装填して、前記(イ)含酸素有機溶媒又は(ロ)混合溶媒の2相系を形成させ、この2相系が懸濁状態となる程度の攪拌を行い、式:MeSiX3 (ここに、Meはメチル基であり、XはF,Cl,Br及びIから選ばれるハロゲン原子である)で表されるメチルトリハロシラン、又は前記(イ)含酸素有機溶媒又は前記(ロ)混合溶媒に溶解させた前記メチルトリハロシランを、前記2相系に滴下して、この2相系中で加水分解及び縮合を行うことを含む前記製造方法。
Fターム (9件):
4J035BA12 ,  4J035CA01K ,  4J035EA01 ,  4J035EB01 ,  4J035EB02 ,  4J035EB04 ,  4J035EB10 ,  4J035LA03 ,  4J035LB01
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特許第3112686号

前のページに戻る