特許
J-GLOBAL ID：200903028395896269
処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-163772
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349775
出願日： 1993年06月10日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 発熱体から載置台を介して被処理体に供給される処理熱の温度分布の均一化を図ると共に、載置台のクリーニングや取換えなどのメンテナンス性を向上させる。【構成】 載置台2を発熱体3に対して着脱可能に形成すると共に、載置台2とを発熱体3に密着させるための密着手段(吸着溝8)を具備している。載置台2の着脱は、その両側に設けた支持軸4を介してガイド部材6上を矢印A,B方向にスライドさせることにより行う。ガイド部材6の上縁部には支持軸4と同数の切欠部7が形成され、切欠部7内に支持軸4が落込むことで載置台2が発熱体3上に正確に位置決めされ着座する。
請求項（抜粋）：
被処理体を載置する載置台と、この載置台を介して上記被処理体に熱を供給する発熱体とを有する処理装置において、上記載置台を上記発熱体に対して着脱可能に形成すると共に、上記載置台と上記発熱体とを密着させるための密着手段を具備したことを特徴とする処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/30
, B05C 9/14
, G03F 7/26
, H01L 21/324
, H01L 21/68
