特許
J-GLOBAL ID:200903028415576606
シリコーン樹脂及びこれを含有する感光性樹脂組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
成瀬 勝夫 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-089441
公開番号(公開出願番号):特開2000-281790
出願日: 1999年03月30日
公開日(公表日): 2000年10月10日
要約:
【要約】【課題】 多層レジスト法用のレジスト材やPDP障壁形成用レジスト材として優れた性能を示すシリコーン感光性樹脂を提供すること、特に、耐プラズマ性(耐O2-RIE)性に優れると共に、これを用いてパターンを形成したとき、高いアスペクト比を得ることができるレジスト材を提供することを目的とする。【解決手段】 ポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の全部又は一部に、下記一般式(1)で表わされるトリオルガノシリル基が結合していることを特徴とするシリコーン樹脂、並びにこのシリコーン樹脂に酸発生剤を配合したことを特徴とする感光性樹脂組成物である。【化1】(但し、式中Rは2価の有機基を示し、R'は2価の基又は直結合を示す)
請求項(抜粋):
ポリオルガノシルセスキオキサンの分子鎖末端の全部又は一部に、下記一般式(1)で表わされるトリオルガノシリル基が結合していることを特徴とするシリコーン樹脂。【化1】(但し、式中Rは2価の有機基を示し、R'は2価の基又は直結合を示す)
IPC (6件):
C08G 77/14
, C08K 5/00
, C08L 83/06
, G03F 7/004 503
, G03F 7/075 511
, H01L 21/027
FI (6件):
C08G 77/14
, C08K 5/00
, C08L 83/06
, G03F 7/004 503 Z
, G03F 7/075 511
, H01L 21/30 502 R
Fターム (25件):
2H025AA03
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 2H025FA41
, 4J002CP051
, 4J002EV256
, 4J002EV296
, 4J002FD206
, 4J002GP03
, 4J035BA12
, 4J035CA04U
, 4J035CA10M
, 4J035FB01
, 4J035LA03
, 4J035LB16
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