特許

J-GLOBAL ID：200903028425696111

ヒドロゲルおよびその製造方法

発明者： 木口 浩史 ,  青山 拓 ,  和田 修
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-079874
公開番号（公開出願番号）：特開平6-287335
出願日： 1993年04月06日
公開日（公表日）： 1994年10月11日
要約：

【要約】【目的】 ヒドロゲル表面を親水性化処理する。【構成】 ヒドロゲル表面を親水性ポリマーで被覆またはグラフト重合する。プロセスは全工程湿式にて行う。【効果】 表面親水化ゲルは、乾燥状態の時は親水基の再結合による消滅が無く、含水状態にあっても親水基の内部へのもぐりこみ(回転拡散)が無い。したがって恒久的に表面の親水性を維持できる。また、全工程湿式にすることにより膨潤、乾燥のくり返しによるゲルの変形を抑制することができる。これらによりヒドロゲルの生体適合性材料への応用が広がり、非常に大きな効果がある。

請求項（抜粋）：

親水性表面を有することを特徴とするヒドロゲル。

IPC (4件)：

C08J 7/16 ,  C08F291/00 MPZ ,  C08L101/00 LTB ,  G02C 7/04