特許
J-GLOBAL ID:200903028427869501
インクジェット記録媒体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-201491
公開番号(公開出願番号):特開2005-161835
出願日: 2004年07月08日
公開日(公表日): 2005年06月23日
要約:
【課題】本発明が解決しようとする課題は、光沢を改良し且つ、インク吸収速度の異常が無く、表面の面質低下や塗布故障が無いインクジェット記録媒体を製造する手段を提供することである。【解決手段】支持体上に、少なくとも1層の、平均二次粒子径が500nm以下のシリカ微粒子を含有する多孔質層を形成した後に、該多孔質層の上に無機微粒子層を設けるインクジェット記録媒体の製造方法であって、該多孔質層を形成した後に該無機微粒子層の塗布液を塗布するに際し、塗液の35°C粘度が10mPa・s以下の無機微粒子層塗布液を該多孔質層の空隙容量の90容量%以下の塗布量で前計量タイプの塗布方式にて塗布することを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
支持体上に、少なくとも1層の、平均二次粒子径が500nm以下のシリカ微粒子を含有する多孔質層を形成した後に、該多孔質層の上に無機微粒子層を設けるインクジェット記録媒体の製造方法であって、該多孔質層を形成した後に該無機微粒子層の塗布液を塗布するに際し、塗液の35°C粘度が10mPa・s以下の無機微粒子層塗布液を該多孔質層の空隙容量の90容量%以下の塗布量で前計量タイプの塗布方式にて塗布することを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法。
IPC (4件):
B41M5/00
, B05D5/04
, B05D7/24
, B41J2/01
FI (4件):
B41M5/00 B
, B05D5/04
, B05D7/24 303B
, B41J3/04 101Y
Fターム (25件):
2C056EA04
, 2C056FC06
, 2H086BA01
, 2H086BA16
, 2H086BA19
, 2H086BA21
, 2H086BA33
, 2H086BA35
, 2H086BA41
, 2H086BA46
, 4D075AC02
, 4D075AC25
, 4D075AC88
, 4D075AE07
, 4D075CA35
, 4D075CA37
, 4D075DA03
, 4D075DA06
, 4D075DB36
, 4D075DC27
, 4D075EA12
, 4D075EB52
, 4D075EB57
, 4D075EC03
, 4D075EC53
引用特許:
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