特許
J-GLOBAL ID：200903028429550391
低温酸化膜形成装置および低温酸化膜形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-306905
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163517
出願日： 1992年11月17日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、低温で酸化膜を形成でき、また外部からの不純物の拡散を防ぐ低温酸化膜形成装置および形成方法を提供することを目的とする。【構成】 低温で酸化膜を形成する装置において、ガス供給口とガス排気口を有する酸化炉と、前記酸化炉を所定の温度に加熱する加熱器と、前期酸化炉の前段に任意の水分を添加する機構あるいは任意の水分を発生する機構を備えたガス供給システムを有することを特徴とする。本発明は、低温で酸化膜を形成でき、また外部からの不純物の拡散を防ぐ低温酸化膜形成装置および形成方法を提供することを目的とする。
請求項（抜粋）：
低温で酸化膜を形成する装置において、ガス供給口とガス排気口を有する酸化炉と、前記酸化炉を所定の温度に加熱する加熱器と、前期酸化炉の前段に任意の水分を添加する機構あるいは任意の水分を発生する機構を備えたガス供給システムを有することを特徴とする低温酸化膜形成装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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