特許
J-GLOBAL ID:200903028430399761
植栽基盤造成方法及び植栽ブロック
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
中島 淳 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-309406
公開番号(公開出願番号):特開平10-147939
出願日: 1996年11月20日
公開日(公表日): 1998年06月02日
要約:
【要約】【課題】 植木を植栽するための最適な植栽基盤を容易に造成し、風雨による法面の浸食を防止し、樹木の活着を促進させる。【解決手段】 コンクリート法枠12の底面12Aへ、円筒形のボイドを固定し連続空隙硬化体を打設する。連続空隙硬化体が硬化する前に、丸環24の付いたフック26をボイドの回りに埋め込み、硬化した後、ボイドを脱型する。これにより、植栽基盤28に内周壁がポーラスな植穴20が形成される。芝の種が混合された客土30を、植栽基盤28の表面に薄く吹き付け、植穴20には、客土32を入れ、樹木16の根鉢18を植栽する。植栽した後は、フック26の丸環24にロープ34を掛け、このロープ34で樹木16を固定する。樹木16の根は植穴20から植栽基盤28へ伸長することができるので、樹木が大きく成長する。
請求項(抜粋):
法面に植栽用の植穴を形成する箱抜きを設置する工程と、法面に連続空隙硬化体を打設するための型枠を設置する工程と、前記型枠内へ連続空隙硬化体を打設する工程と、前記連続空隙硬化体が硬化した後、前記箱抜きを脱型する工程と、を有することを特徴とする植栽基盤造成方法。
IPC (3件):
E02D 17/20 103
, E02D 17/20 102
, E02D 29/02 311
FI (3件):
E02D 17/20 103 H
, E02D 17/20 102 E
, E02D 29/02 311
引用特許:
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