特許

J-GLOBAL ID：200903028431034228

アルミニウム技術および銅技術における絶縁材料のためのモノマー

発明者： アンドレアス ヴァルター ,  インゴ グネヒテル ,  アンナ マルテンベルガー ,  レカイ セジ ,  ホルスト ハルトマン
出願人/特許権者： インフィネオン テクノロジーズ アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (3件)： 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-180250
公開番号（公開出願番号）：特開2004-026831
出願日： 2003年06月24日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：

【課題】小さい誘電率、高温安定性および化学安定性を有する、絶縁ポリマーの生成を可能にする、新しい出発材料を利用可能にすること。【解決手段】本発明は、以下の式Iで表される新しいビス-o-アミノフェノール【化120】に関し、ここで、Mは、請求項1に記載の意味を有する。このビス-o-アミノフェノールは、耐熱ポリベンゾオキサゾールの生成を可能にする。ビス-o-アミノフェノールは、好適には、最初にニトロソ化された、対応するジオールから生成される。次に、ニトロソ化合物は、Pd/C、H2を用いる水素添加によって、アミノ化合物に還元される。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

以下の式Iで表されるビス-o-アミノフェノール

IPC (3件)：

C07C213/02 ,  C07C215/80 ,  C07C217/90

FI (3件)：

C07C213/02 ,  C07C215/80 ,  C07C217/90

Fターム (17件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB46 ,  4H006AB78 ,  4H006AC51 ,  4H006AC52 ,  4H006BA25 ,  4H006BA55 ,  4H006BA61 ,  4H006BE20 ,  4H006BJ50 ,  4H006BN30 ,  4H006BP30 ,  4H006BP60 ,  4H006BU46 ,  4H039CA71 ,  4H039CB40

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ビスーo-アミノ(チオ)フェノールおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-270392   出願人：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト