特許
J-GLOBAL ID:200903028434019440

乾式除害装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉嶺 桂 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-166799
公開番号(公開出願番号):特開平6-023220
出願日: 1992年06月03日
公開日(公表日): 1994年02月01日
要約:
【要約】【目的】 半導体製造等における排気ガスに含まれる反応性に富んだ特殊成分を処理したときの除害剤の発火・爆発の危険性を短期間で予知することのできる乾式除害装置を提供する。【構成】 真空製造装置からの排ガスを処理する乾式除害装置において、該装置には粒状の除害剤2を充填した除害カラム1が配備され、該除害カラム2には被処理ガス流入部3近傍に、脱着可能な除害剤充填ミニカラム5が内挿具備されている。
請求項(抜粋):
真空製造装置からの排ガスを処理する乾式除害装置において、該装置には粒状の除害剤を充填した除害カラムが配備され、該除害カラムには少なくとも被処理ガス流入部近傍に、脱着可能な除害剤充填ミニカラムが内挿具備されていることを特徴とする乾式除害装置。
IPC (5件):
B01D 53/02 ,  B01D 53/34 120 ,  B01D 53/34 134 ,  B01D 53/34 ,  H01L 21/302

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