特許
J-GLOBAL ID:200903028446586243
磁気ディスクの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-211094
公開番号(公開出願番号):特開平7-050012
出願日: 1993年08月04日
公開日(公表日): 1995年02月21日
要約:
【要約】【構成】 円盤状の非磁性基板4表面に硬化層5を形成し、粒径が4μm以下に揃った研磨砥粒と界面活性剤とが少なくとも含まれた水溶液を上記硬化層5表面に供給しながら、繊度0.3〜3デニール、繊維長0.2〜1mmのナイロン6若しくはナイロン66の合成樹脂からなるパイルを、合成樹脂フィルム若しくは織布からなるベーステープに均一な密度で植毛した加工布1を、上記硬化層5に圧接して微細なテクスチャ溝を形成し、更に強磁性金属からなる磁気記録層9を成膜する磁気ディスクの製造方法。【効果】 テクスチャ加工の際に、加工浮上の砥粒分散状態を均一に保つことが可能になり、基板表面粗さを均一に加工することが可能になる。従って、磁気ヘッドの吸着現象が起こり難くかつ磁気ヘッドの浮上量を低く設定してもヘッドクラッシュが起こりにくい磁気ディスク用基板を簡便に製造できる。
請求項(抜粋):
円盤状の非磁性基板表面に硬化層を形成し、この硬化層表面をテクスチャ加工して微細なテクスチャ溝を形成した後、強磁性金属からなる磁気記録層を成膜する磁気ディスクの製造方法において、上記テクスチャ加工が、粒径の揃った研磨砥粒と界面活性剤とが少なくとも含まれた水溶液を上記硬化層表面に供給しながら、パイルをベーステープに植毛した加工布を上記硬化層に圧接して微細なテクスチャ溝を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
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