特許

J-GLOBAL ID：200903028452650875

柱状構造体及びその製造方法

発明者： 小川 美紀 ,  宮田 浩克 ,  オットー・アルブレヒト ,  大倉 央 ,  栗山 朗
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 山下 穣平 ,  志村 博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-363132
公開番号（公開出願番号）：特開2004-193525
出願日： 2002年12月13日
公開日（公表日）： 2004年07月08日
要約：

【課題】非常に微細なサイズの柱状構造体を微細な間隔で低コストかつ短時間で基板上に形成する方法、及び、その製造方法により形成された柱状構造体を提供する。【解決手段】柱状構造体17は、基板11上に形成された微細なドットパターン16をマスクとして利用したエッチングプロセスで形成される。微細なドットパターン16は、基板11上に形成した多孔質膜45の柱状の細孔14内にマスク材料(貴金属、とくに金)を導入した後に多孔質膜45を除去して得られる。多孔質膜45は、第一の成分(例えば、アルミニウム)を含み構成される柱状物質42が、第一の成分と共晶を形成し得る第二の成分((例えば、シリコン、ゲルマニウム、あるいはゲルマニウムとシリコンの混合物))を含み構成される他成分のマトリクス43中に分散している構造体から、柱状物質42を除去して形成されている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

柱状の部材と該柱状の部材を取り囲む領域を含む構造体を用意する工程、該構造体から該柱状の部材を除去して多孔質体を形成する工程、及び該多孔質体にマスク材料を導入する工程を有することを特徴とするマスク部材の製造方法。

IPC (2件)：

H01L29/06 ,  B82B1/00

FI (3件)：

H01L29/06 601D ,  H01L29/06 601N ,  B82B1/00