特許
J-GLOBAL ID：200903028483651624
電子線描画方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-075038
公開番号（公開出願番号）：特開平8-274008
出願日： 1995年03月31日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：
【要約】【構成】マスクの高さを測定し、描画理想水平面に対するマスクの傾きを算出することによりX方向,Y方向の試料ステージの移動ピッチ量を補正する。【効果】マスクの傾きに応じた試料ステージの移動ピッチの補正により、高精度な回路パターン描画が実現できる。
請求項（抜粋）：
電子線を発生させる電子銃と前記電子銃から発せられた電子線を試料面上に投射するための電子光学系と、電子線を前記試料面で走査させるための偏向制御系と、前記試料面に固定されたマスクの高さを計測する検出器と、これら前記電子光学系,前記偏向制御系,前記信号処理系及び前記試料を移動させるためのステージ制御系とからなる電子線描画装置において、試料ステージにセットしたマスク面の高さを前記検出器により測定することにより、マスクのX方向,Y方向の傾き量を算出し、傾きから生じる描画位置誤差を補正して描画することを特徴とする電子線描画装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 J
, H01L 21/30 541 L
