特許
J-GLOBAL ID:200903028486186914

可逆的付加-フラグメント化により制御されるラジカル重合により得られるポリマーの1個または数個のチオカルボニルチオ末端を一部または完全に酸化する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 倉内 基弘 ,  遠藤 朱砂 ,  吉田 匠 ,  中島 拓
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-536122
公開番号(公開出願番号):特表2007-509216
出願日: 2004年10月21日
公開日(公表日): 2007年04月12日
要約:
本発明はチオカルボニルチオ剤を用いる可逆的付加-フラグメント化により制御されるラジカル重合から得られるポリマーの1以上のチオカルボニルチオ末端を一部または完全に酸化する方法を提供する。本方法は該ポリマーをオゾン含有気体と接触させ、オゾンをチオカルボニルチオ末端(単数または複数)と反応させる工程を含む。本発明はまたこの方法により得られるポリマー及びその用途に関する。
請求項(抜粋):
チオカルボニルチオ剤を用いる可逆的付加-フラグメント化により制御されるラジカル重合から得られるポリマーの1以上のチオカルボニルチオ末端を一部または完全に酸化する方法であって、該ポリマーをオゾン含有気体と接触させ、オゾンをチオカルボニルチオ末端(単数または複数)と反応させる工程を含む、方法。
IPC (1件):
C08F 6/00
FI (1件):
C08F6/00
Fターム (22件):
4J100AB02P ,  4J100AC00P ,  4J100AC03P ,  4J100AC04P ,  4J100AC23P ,  4J100AC24P ,  4J100AG04P ,  4J100AJ02P ,  4J100AJ08P ,  4J100AJ09P ,  4J100AL03P ,  4J100AM02P ,  4J100AM15P ,  4J100AM21P ,  4J100AP01P ,  4J100AQ12P ,  4J100AQ19P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100FA03 ,  4J100GC00 ,  4J100HB08
引用特許:
審査官引用 (3件)

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