特許

J-GLOBAL ID：200903028501656329

珪素含有高分子化合物及びそれを用いたレジスト材 料

発明者： 岩佐 繁之 ,  中野 嘉一郎 ,  前田 勝美 ,  長谷川 悦雄
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-203126
公開番号（公開出願番号）：特開平7-056354
出願日： 1993年08月17日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：

【要約】【構成】 主鎖中にポリシルセスキオキサンとこれと芳香族炭化水素4価基、或いは、環状炭化水素4価値をエステル基で結合した珪素含有高分子化合物及びこれと露光により酸を発生する感光性材料からなるレジスト材料。【効果】 本発明の高分子化合物は、光酸発生剤と組み合わせ、光照射を行うことにより、主鎖分解が起こり、低分子価され、これにより溶剤への溶解性が著しく変化する。このような特性を利用することにより化学増幅型レジストのベースポリマーとして有用である。さらに、本高分子化合物は、珪素原子を有することから耐酸素プラズマエッチング性に優れ、レジストパターンの転写において酸素によるドライエッチングが可能となる利点がある。

請求項（抜粋）：

下記の一般式(I)【化1】で表され、式中、R1 、R2 は、同一もしく異なっていてもよく、炭素数1〜10の飽和アルキル基を表し、R3 は、芳香族炭化水素4価基または炭素数4〜7の環状飽和炭化水素4価基を表し、R4 、R5 、R6 、R7 は、同一もしくは異なっていてもよく、水素原子またはトリメチルシリル基を表し、nは3〜50、mは2〜100の正の整数である珪素含有高分子化合物。

IPC (4件)：

G03F 7/075 511 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027