特許
J-GLOBAL ID:200903028503561996

流体制御処理システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 青山 葆 ,  河宮 治 ,  山崎 宏
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-523575
公開番号(公開出願番号):特表2004-508542
出願日: 2001年07月26日
公開日(公表日): 2004年03月18日
要約:
本発明の実施形態は、例えば試料の分析物の有無を決定するために、同一の装置を使用する異なるプロトコルにより、流体試料を容易に処理する。特定の実施例では、複数チャンバ間の流体の流れを制御する流体制御処理システムは、流体移動チャンバ(50)と流体工学的に結合された流体処理領域を含む本体を備える。上記流体移動チャンバは減圧できて流体を上記チャンバに吸引すると共に、加圧できて流体を上記チャンバから放出する。本体は複数の外部ポート(42,46)を含む。流体試料処理領域は少なくとも2つの外部ポートと流体工学的に結合される。流体移動チャンバは少なくとも1つの外部ポートと流体工学的に結合される。本体は少なくとも複数のチャンバに対して調整可能であって1つの外部ポートを複数のチャンバと選択的に流体で連通するように配置する。
請求項(抜粋):
複数のチャンバの中の流体の流れを制御するための流体制御処理システムであって、 流体移動チャンバと流体工学的に連続的に結合された流体試料処理領域を含む本体を備え、上記流体移動チャンバは減圧できて流体を上記流体移動チャンバ内に引き込むと共に、加圧できて流体を上記流体移動チャンバから放出し、上記本体は複数の外部ポートを含み、上記流体試料処理領域は複数の流体処理ポートを含み、上記流体処理ポートの各々は上記外部ポートの1つと流体工学的に結合され、上記流体移動チャンバは少なくとも1つの上記外部ポートと流体工学的に結合され、上記本体は複数のチャンバに対して調整できて、上記外部ポートが上記複数のチャンバと流体で選択的に連通するように配置され得ることを特徴とするシステム。
IPC (2件):
G01N35/10 ,  G01N1/00
FI (2件):
G01N35/06 B ,  G01N1/00 101F
Fターム (29件):
2G052AD26 ,  2G052CA03 ,  2G052CA13 ,  2G052CA35 ,  2G052DA21 ,  2G052EA03 ,  2G052EB11 ,  2G052FB02 ,  2G052FB06 ,  2G052FB10 ,  2G052FC06 ,  2G052FC11 ,  2G052FD01 ,  2G052HC04 ,  2G052HC08 ,  2G052HC27 ,  2G058BA01 ,  2G058BB02 ,  2G058BB09 ,  2G058BB15 ,  2G058EA14 ,  2G058EC05 ,  2G058EC08 ,  2G058EC09 ,  2G058FA01 ,  2G058FB03 ,  2G058FB12 ,  2G058GE02 ,  2G058HA00
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)
  • 特開昭54-046177
  • 特開昭54-046177

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