特許
J-GLOBAL ID：200903028507475083

毛髪化粧料用基剤及びそれを用いた毛髪化粧料

発明者：
今中 達也

今中 達也 について

, 
山本 浩司

山本 浩司 について


出願人/特許権者：
互応化学工業株式会社

互応化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 安藤 惇逸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-233871
公開番号（公開出願番号）：特開2003-048817
出願日： 2001年08月01日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：
【要約】【課題】 保存安定性及び均一付着性に優れ、ごわつき、べたつきがなく、形成フィルムが透明で耐水性、耐湿性、低粘着性、平滑効果及び長期の効果維持を発揮する毛髪化粧料用基剤及び毛髪化粧料を提供する。【解決手段】 (a)ラジカル重合可能なエチレン性不飽和基を1個以上有するリン酸エステル化合物0.1〜20重量%、(b)分子内にカルボキシル基を一つ以上有するエチレン性不飽和単量体10〜40重量%及び(c)その他のエチレン性不飽和単量体40〜89.9重量%からなる(A)エチレン性不飽和単量体成分を、(B)アミノ変性シリコーン化合物と(C)親水性溶媒又は水及び親水性溶媒からなる溶媒の存在下に、(D)ラジカル重合開始剤を用いて溶液重合により共重合反応させて得られる共重合体からなる。
請求項（抜粋）：
(A)下記のエチレン性不飽和単量体(a)〜(c)、即ち(a)ラジカル重合可能なエチレン性不飽和基を1個以上有するリン酸エステル化合物0.1〜20重量%、(b)分子内にカルボキシル基を一つ以上有するエチレン性不飽和単量体10〜40重量%及び(c)その他のエチレン性不飽和単量体40〜89.9重量%からなるエチレン性不飽和単量体成分を、(B)アミノ変性シリコーン化合物と(C)親水性溶媒又は水及び親水性溶媒からなる溶媒の存在下に、(D)ラジカル重合開始剤を用いて溶液重合により共重合反応させて得られる共重合体からなる毛髪化粧料用基剤。
IPC (8件)：
A61K 7/06 ,  A61K 7/11 ,  C08F 2/14 ,  C08F 2/44 ,  C08F 8/44 ,  C08F220/02 ,  C08F222/02 ,  C08F230:02
FI (8件)：
A61K 7/06 ,  A61K 7/11 ,  C08F 2/14 ,  C08F 2/44 B ,  C08F 8/44 ,  C08F220/02 ,  C08F222/02 ,  C08F230:02
Fターム (60件)：
4C083AC012 ,  4C083AC102 ,  4C083AC442 ,  4C083AC542 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083BB43 ,  4C083CC31 ,  4C083CC32 ,  4C083DD08 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083EE01 ,  4C083EE03 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4J011HA03 ,  4J011HA04 ,  4J011HA08 ,  4J011HB14 ,  4J011PA47 ,  4J011PB33 ,  4J011PC02 ,  4J011PC08 ,  4J100AB02P ,  4J100AG04P ,  4J100AJ01Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ08Q ,  4J100AJ09Q ,  4J100AL03P ,  4J100AL04P ,  4J100AL05P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08R ,  4J100AL09P ,  4J100AM02P ,  4J100AM15P ,  4J100AM17P ,  4J100AM21P ,  4J100AQ08P ,  4J100BA02P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BA08R ,  4J100BA09R ,  4J100BA14P ,  4J100BA64R ,  4J100CA05 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100HA31 ,  4J100HB39 ,  4J100HB43 ,  4J100HC43 ,  4J100HC44 ,  4J100HC45 ,  4J100HC47 ,  4J100HC63 ,  4J100JA61
引用特許：
審査官引用 (3件)

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