特許
J-GLOBAL ID：200903028510764193
縦型熱処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-358987
公開番号（公開出願番号）：特開平6-204157
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：
【要約】【目的】 半導体ウェハを加熱した熱が熱処理用ボートを介して回転機構に集中して,回転軸が高温になるのを防止する。【構成】 被処理体を収容する処理容器の蓋体に磁性流体シールからなる回転導入機を設け,この回転導入機の回転軸内に冷却媒体を循環することができるように構成することと,また,被処理体が収容された熱処理用ボートを保持する保温筒をこの回転軸で支持する。
請求項（抜粋）：
被処理体を収容する処理容器の蓋体に磁性流体シールからなる回転導入機を設け,この回転導入機の回転軸内に冷却媒体を循環することができるように構成したことを特徴とする縦型熱処理装置。
IPC (2件)：
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