特許
J-GLOBAL ID：200903028527492650

基板洗浄方法及び装置

発明者：
佐原 輝隆

佐原 輝隆 について

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妻木 伸夫

妻木 伸夫 について

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正木 広志

正木 広志 について

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北田 由光

北田 由光 について


出願人/特許権者：
株式会社日立プラントテクノロジー

株式会社日立プラントテクノロジー について


代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-265393
公開番号（公開出願番号）：特開2008-080291
出願日： 2006年09月28日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：
【課題】少ない洗浄液で効率よく基板を洗浄でき、コンパクトな構成の基板洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】垂直な姿勢で保持されたガラス基板Gに向けてノズル列32をから超音波が印加された洗浄液を噴射しながら、ノズル列32をガラス基板Gに沿って昇降させる。超音波は、ガラス基板Gの表面で集束するように印加する。これにより、少ない洗浄液で効率よく基板を洗浄することができる。また、大型のガラス基板を洗浄する場合であっても装置構成をコンパクトにすることができる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板を垂直な姿勢で保持し、該基板に超音波が印加された洗浄液を噴射して、該基板を洗浄することを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (2件)：
B08B 3/12 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
B08B3/12 Z ,  H01L21/30 572B
Fターム (13件)：
3B201AA02 ,  3B201AB16 ,  3B201BA02 ,  3B201BB02 ,  3B201BB25 ,  3B201BB42 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  5F046MA06 ,  5F046MA10
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)
  • 基板洗浄装置および基板洗浄方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-350038   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 板状部材の搬送装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-133035   出願人：第一施設工業株式会社, 永田徹三
  • 超音波洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-298104   出願人：国立大学法人東京大学, 日立プラント建設株式会社

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