特許
J-GLOBAL ID：200903028536767794

分割可能な電極及びこの電極を用いたプラズマ処理装置ならびに電極交換方法

発明者：
輿水 地塩

輿水 地塩 について

, 
高山 直樹

高山 直樹 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 大川 晃
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-039749
公開番号（公開出願番号）：特開2002-246371
出願日： 2001年02月16日
公開日（公表日）： 2002年08月30日
要約：
【要約】【課題】 プラズマがガス噴出孔を通じて電極のさらに内部に入り込み、電極支持部材をスパッタすることによる金属汚染を防止し、かつ寿命の長い電極を提供すること。【解決手段】 本発明の電極は、一以上のガス通路孔23aを有する上部板22aと、一以上のガス噴出孔23bを有する下部板22bとを有し、かつ上部板22aと下部板22bを上下に分割可能な構成とすると共に、上部板22aのガス通路孔23a及び下部板22bのガス噴出孔23bの一方又は両方を、その一部又は全部を電極面22sに対して斜めに設けるか、又はその一部を電極面22sに対して平行に設ける。
請求項（抜粋）：
気密に保たれた処理容器内に配置され、被処理体を載置する載置台と、前記載置台に対向して配置された一以上のガス噴出孔を有する電極とを備えたプラズマ処理装置において、前記電極は、一以上のガス通路孔を有する上部板と、一以上のガス噴出孔を有する下部板とからなり、前記上部板と前記下部板とを上下に分割可能な構成としたことを特徴とする電極。
IPC (5件)：
H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (5件)：
B01J 19/08 H ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 C
Fターム (22件)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075BD14 ,  4G075EA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4K030EA05 ,  4K030FA03 ,  4K030KA17 ,  5F004AA16 ,  5F004BA06 ,  5F004BC03 ,  5F004BD04 ,  5F045AA08 ,  5F045BB08 ,  5F045EC07 ,  5F045EF05 ,  5F045EH05 ,  5F045EH13
引用特許：
審査官引用 (6件)
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