特許

J-GLOBAL ID：200903028537593030

シャワーヘッド構造、処理装置及び処理方法

発明者： 高木 俊夫 ,  佐久間 健 ,  加藤 雄二 ,  松本 賢治
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-365813
公開番号（公開出願番号）：特開2004-079985
出願日： 2002年12月17日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】放射温度計を用いた場合にあっても膜厚の面内均一性を高めることが可能なシャワーヘッド構造を提供する。【解決手段】所定の処理を施すために加熱された被処理体Wを収容した処理空間4に対して処理ガスを供給するための複数のガス噴射孔20A,20Bを有するシャワーヘッド構造12において、前記ガス噴射孔に、放射温度計66の光導入ロッド68を挿通させて設けるように構成する。これにより、例えば成膜処理中に噴射される処理ガスにより上記光導入ロッドが覆われるようになり、この光導入面に薄膜が付着することを防止することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

所定の処理を施すために加熱された被処理体を収容した処理空間に対して処理ガスを供給するための複数のガス噴射孔を有するシャワーヘッド構造において、 前記ガス噴射孔に、放射温度計の光導入ロッドを挿通させて設けるように構成したことを特徴とするシャワーヘッド構造。

IPC (3件)：

H01L21/31 ,  C23C16/52 ,  H01L21/3065

FI (3件)：

H01L21/31 B ,  C23C16/52 ,  H01L21/302 101G

Fターム (22件)：

4K030AA14 ,  4K030BA42 ,  4K030CA04 ,  4K030DA06 ,  4K030EA05 ,  4K030FA10 ,  4K030JA10 ,  4K030KA23 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  4K030KA46 ,  4K030LA15 ,  5F004BA04 ,  5F004BC08 ,  5F004CA04 ,  5F045AA04 ,  5F045AB31 ,  5F045AC07 ,  5F045DP03 ,  5F045EE03 ,  5F045EF01 ,  5F045GB05

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-061808   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-328016   出願人：株式会社日立国際電気

審査官引用 (1件)

• 熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-061808   出願人：東京エレクトロン株式会社