特許

J-GLOBAL ID：200903028545272951

大気圧グロ-放電プラズマ処理法

発明者： 内山 宏
出願人/特許権者： イーシー化学株式会社
代理人 (1件)： 田中 宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-233026
公開番号（公開出願番号）：特開平7-085997
出願日： 1993年09月20日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：

【要約】【目的】本発明は、大気圧グロ-放電処理によって、被処理物質の表面に均一な処理層又は薄膜を形成する大気圧グロ-放電プラズマ処理法に関する。【構成】対向する平行電極の少なくとも一方の電極の表面に固体誘電体を配設してなる電極を有するプラズマ反応装置に、該反応装置内に不活性ガス、又は、不活性ガスと反応性ガスを導入し、電極間に電圧を印加して大気圧グロ-放電プラズマ励起させ、対向する電極の間に位置せしめた被処理物質の表面を親水化、または薄膜形成を行う大気圧グロ-放電プラズマ処理法において、前記グロ-放電を発生させる電圧として、高周波電圧と直流逆電圧を交互に印加してグロ-放電を発生せしめることを特徴とする大気圧グロ-放電プラズマ処理法である。

請求項（抜粋）：

対向する平行電極の少なくとも一方の電極の表面に固体誘電体を配設してなる電極を有するプラズマ反応装置に、該反応装置内に不活性ガス、又は、不活性ガスと反応性ガスを導入し、電極間に電圧を印加して大気圧グロ-放電プラズマを励起させ、対向する電極の間に位置せしめた被処理物質の表面を親水化、または薄膜形成を行う大気圧グロ-放電プラズマ処理法において、前記グロ-放電を発生させる電圧として、高周波電圧と直流逆電圧を交互に印加してグロ-放電を発生せしめることを特徴とする大気圧グロ-放電プラズマ処理法。

IPC (5件)：

H05H 1/46 ,  C08J 7/00 306 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-074525
  
• 特開昭53-068171
  
• 特開昭63-288021