特許

J-GLOBAL ID：200903028555564675

光触媒構造体およびその製造法

発明者： 金森 正晃 ,  小島 隆二 ,  鈴木 清宏 ,  古賀 正太郎
出願人/特許権者： NOK株式会社
代理人 (1件)： 吉田 俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-344886
公開番号（公開出願番号）：特開2003-340290
出願日： 2002年11月28日
公開日（公表日）： 2003年12月02日
要約：

【要約】【課題】 紫外線透過性担体およびそれに担持せしめた光触媒構造体において、さらに分解性能を向上せしめたものを提供する。【解決手段】 紫外線透過性担体およびそれに担持せしめた光触媒よりなる光触媒構造体において、光触媒が被覆膜状物および微粒子状物の形状を有していることを特徴とする光触媒構造体。この光触媒構造体は、ゾルゲル法による光触媒成分の被覆形成に用いられるゲル溶液中に光触媒成分粒子を分散させた原料液をけい砂表面上に被覆した後、アニーリング温度に加熱してけい砂表面に光触媒成分の被覆膜状物を形成させると共に光触媒成分微粒子をけい砂表面に担持させることにより製造される。

請求項（抜粋）：

紫外線透過性担体およびそれに担持せしめた光触媒よりなる光触媒構造体において、光触媒が被覆膜状物および微粒子状物の形状を有していることを特徴とする光触媒構造体。

IPC (5件)：

B01J 35/02 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/08 ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/72 101

FI (6件)：

B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 21/08 M ,  C02F 1/30 ,  C02F 1/72 101 ,  B01D 53/36 J ,  B01D 53/36 G

Fターム (52件)：

4D037AA11 ,  4D037BA18 ,  4D037CA11 ,  4D048AA19 ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA41X ,  4D048BB01 ,  4D048BB17 ,  4D048DA03 ,  4D048DA11 ,  4D048EA01 ,  4D050AA12 ,  4D050AB11 ,  4D050BB01 ,  4D050BC04 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA21C ,  4G069BA48A ,  4G069BE06C ,  4G069BE32C ,  4G069CA01 ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069DA05 ,  4G069EA01X ,  4G069EA01Y ,  4G069EA08 ,  4G069EB15X ,  4G069EB15Y ,  4G069EB18X ,  4G069EB18Y ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069EC27 ,  4G069EC28 ,  4G069ED10 ,  4G069FA01 ,  4G069FA02 ,  4G069FB06 ,  4G069FB08 ,  4G069FB23 ,  4G069FB29 ,  4G069FC02 ,  4G069FC07 ,  4G069FC08