特許
J-GLOBAL ID:200903028559721449
ジメチルシクロヘキサンジカルボキシレートの製造
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-501971
公開番号(公開出願番号):特表平8-511531
出願日: 1994年06月03日
公開日(公表日): 1996年12月03日
要約:
【要約】独特な組み合わせの特性を有する、一種のアルミナ上パラジウム触媒の存在下において類似ジメチルベンゼンジカルボキシレートエステルを水素添加することによる、ジメチルシクロヘキサンジカルボキシレートの製造方法が開示される。このような触媒を使用することによって、従来より著るしく低い操作圧力において方法を実施することが可能になる。
請求項(抜粋):
(1)パラジウムが触媒の0.1〜5.0重量%を構成し;(2)パラジウム分散率が少なくとも20%であり;(3)パラジウムの少なくとも90重量%がアルミナ上、アルミナの表面から200ミクロン未満の深さに位置し;且つ(4)アルミナの結晶相がα,θ,δ,γ,ηまたはそれらの混合物であるアルミナ上パラジウム触媒の存在下、温度140〜400°C及び圧力10〜200バール(絶対)(1,000〜20,000kPa)においてジメチルベンゼンジカルボキシレートを水素と接触させることを含んでなる、ジメチルシクロヘキサンジカルボキシレートの製造方法。
IPC (4件):
C07C 69/75
, B01J 23/44
, C07C 67/303
, C07B 61/00 300
FI (4件):
C07C 69/75 Z
, B01J 23/44 X
, C07C 67/303
, C07B 61/00 300
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