特許
J-GLOBAL ID：200903028561235497
電子線描画データ作成方法、作成装置及び作成プログラム並びに電子線描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
日向寺 雅彦
, 松山 允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-209623
公開番号（公開出願番号）：特開2005-079111
出願日： 2003年08月29日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：
【課題】多重描画用の描画データのデータ量を低減させ、その作成時間や描画時間も短縮することが可能な電子線描画データ作成方法、作成装置及び作成プログラム並びに電子線描画装置を提供することを目的とする。【解決手段】パターン毎にその寸法や形状、周辺のパターンとの関係を分析し、多重描画が不要と判断した場合は、多重描画用の重複パターンの出力を省略する。多重描画を省略したパターンについては、電子線のドーズ量を多くすることなどの方法によって描画の調整をする。また、多重描画が必要な場合でも、描画フィールド境界や、微小図形の発生等のように異なる分割形状のパターンを重ねる効果がある場合以外は、パターンの分割形状を同一とし、その描画データの圧縮表現を利用して、多重に出力する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被露光体に対して電子線を用いた多重描画により描画するための描画データを生成する電子線描画データ生成方法であって、
描画すべきパターンごとに多重度を決定し、多重度が異なるパターンの混在を可能としたことを特徴とする電子線描画データ生成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 541J
, G03F1/08 A
2H095BA09
, 2H095BB01
, 5F056AA04
, 5F056CA02
, 5F056CA22
, 5F056CA23
