特許
J-GLOBAL ID：200903028569493118
二重壁炭素ナノチューブ並びにその製造および使用方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
三好 秀和
, 三好 保男
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-534209
公開番号（公開出願番号）：特表2004-518600
出願日： 2000年10月30日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：
本発明は、炭素原子の二重層(3)からなる円筒壁部を有するフラーレン炭素ナノチューブ並びにその製造および使用方法に関するものであり、さらに調節数の炭素層を有するナノチューブおよびその大規模量の製造方法、さらにたとえば発光CRTからなる低温フィールド電子放出装置のようなその使用方法に関するものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
二重壁ナノチューブ(DWNT)を含むフラーレンの製造方法において、炭素の供給源と実質的に元素周期律表の鉄族の遷移金属および硫黄からなる触媒とを実質的に水素含有ガスからなるDWNT形成雰囲気を有する反応帯域に供給し、前記炭素および触媒を反応帯域で熱にかけ、これにより熱炭素含有蒸気を生成させ、熱蒸気を前記DWNT形成雰囲気で急冷して熱蒸気を凝縮させ、生ずる生成物を回収すると共に、得られた生成物から前記DWNTを反応帯域の加熱領域の外部で回収することを特徴とするフラーレンの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (11件)：
4G146AA07
, 4G146AA11
, 4G146AD23
, 4G146BA01
, 4G146BA04
, 4G146BC17
, 4G146BC23
, 4G146BC25
, 4G146BC27
, 4G146BC28
, 4G146BC44
