特許
J-GLOBAL ID：200903028572430640
スカート付きエアナイフ及びそれを備えた基板洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
村山 光威
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-150937
公開番号（公開出願番号）：特開2002-336807
出願日： 2001年05月21日
公開日（公表日）： 2002年11月26日
要約：
【要約】【課題】 基板の洗浄時の濡れ領域境界線を直線に安定的に保ち、除去異物の再付着による洗浄効果の低下を防止する。【解決手段】 液晶用基板洗浄時に、エア噴出スリット4の上部から基板1付近まで延びたスカート5を有するエアナイフによりエアを噴出する。この構成により、エア噴出スリット4とスカート5と基板1で形成される空間に、絶えずエア噴出スリット4から高圧エアが供給され、その空間が高圧に維持されるため噴出エアの気流のばらつきや水勢変動による基板1の未濡れ領域への洗浄液の侵入が抑えられ、濡れ領域境界線の直線的制御を安定的に可能とすることができ、基板の洗浄効果の低下を防止する。
請求項（抜粋）：
液晶用基板洗浄時の基板の洗浄液切りに用いられるエアナイフにおいて、エア噴出スリット上部から基板付近まで延びたスカートを有することを特徴とするエアナイフ。
IPC (3件)：
B08B 5/02
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
B08B 5/02 A
, G02F 1/13 101
, G02F 1/1333 500
2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H090JC19
, 3B116AA02
, 3B116BB21
, 3B116CC03
, 3B116CD35
