特許

J-GLOBAL ID：200903028591567885

電子線描画装置及び電子線描画方法

発明者： 家田 浩司 ,  青木 康子
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 小川 勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-307300
公開番号（公開出願番号）：特開2003-115439
出願日： 2001年10月03日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：

【要約】【課題】発明は電子線描画装置において不可欠である電子線校正を精度良く実施するすることにある。【解決手段】ウェハ12にマーク位置25A,25Bを使って偏向歪みの補正を施し、この偏向歪み値に応じて位置決め偏向器8の偏向位置を補正し、補正された電子線9をウェハ12に照射し、ウェハ12にパターンを正確に描画することにより、電子線の校正を精度良く実施する事が可能となり、電子線描画装置を高精度にて稼動でき歩留まりの向上を達成することができる。

請求項（抜粋）：

試料を試料台に載置し、前記試料台の基準マーク位置と前記試料のマーク位置とに位置決め偏向器からの電子線を照射し、その反射電子線を検出器で検出した反射電子線を、制御計算機の格納メモリに格納し、前記基準マーク位置値と試料マーク位置値との差分値だけ前記位置決め偏向器の偏向位置を補正し、位置決め偏向器からの補正された電子線を前記試料に照射し、試料にパターンを描写する装置において、前記試料マーク位置の測定結果をDaとし、前記基準マーク位置の測定結果をDcとし、DcとDaとの差分値を閾値とすれば、Daが閾値より大きい場合には、前記Daの値分だけ前記位置決め偏向器の偏向位置を補正することを特徴とする電子線描写装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305

FI (6件)：

G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 C ,  G21K 5/04 M ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 D

Fターム (10件)：

5C033GG03 ,  5C034BB04 ,  5C034BB06 ,  5C034BB07 ,  5F056AA01 ,  5F056BB01 ,  5F056BB06 ,  5F056BD03 ,  5F056BD05 ,  5F056CD02