特許
J-GLOBAL ID：200903028608091456
自立したダイヤモンドウェハーおよびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上代 哲司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-271944
公開番号（公開出願番号）：特開平8-133893
出願日： 1994年11月07日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：
【要約】【目的】 表面弾性波素子、半導体デバイス、耐磨ディスク、X線、赤外線等のウインドーなどに利用するための自立したダイヤモンドウェハーを製作すること。【構成図】 基板の上に、気相合成法によりダイヤモンド膜を形成した後、基板を除去して反りが2〜150μmであり、表面粗度がRmax500Å以下、Raが200Å以下の平滑な面を有する。
請求項（抜粋）：
気相合成法により基板上にコーティングされたダイヤモンド膜であって、前記基板を除去して自立したダイヤモンドウェハーとなし、自立したダイヤモンドウェハーの少なくとも1つの面の面粗度がRmax500Å以下でかつRa200Å以下であり、ダイヤモンドウェハーが2インチ以上の直径を有する円板またはそれと同等の面積を有する矩形状のものであり、かつ外周から内周に向かって単調に反っていることを特徴とする自立したダイヤモンドウェハー。
IPC (4件)：
C30B 29/04
, B24B 7/22
, C30B 33/08
, H03H 9/25
