静電吸着装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-285959
公開番号（公開出願番号）：特開平5-129420
出願日： 1991年10月31日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：

【要約】【目的】プラズマにより処理されるウエハを支持する静電吸着装置において、処理中のウエハの抵抗の変化を考慮して印加電圧を制御し、SiO2膜等の絶縁膜を耐圧劣化を生じないようにエッチング処理する静電吸着装置を提供する。【構成】直流電源13と静電吸着電極表面のSicの焼体結12の間に電流計15を設け、エッチング処理中にウエハ1を流れる電流を検出して印加電圧制御装置16により直流電源の出力を制御する如くし、印加電圧制御装置16は、電流計15の出力信号から高周波成分を除去して直流成分のみを取り出すローパスフィルター17と、ローパスフィルター17の出力信号と設定値を比較する比較器19と、比較器19からの偏差信号により印加電圧を決定する印加電圧演算回路20により構成する。

請求項（抜粋）：

プラズマにより処理されるウエハを支持する静電吸着装置において、直流電源と静電吸着用絶縁膜の間に電流計を設け、さらに、電流計の出力信号から高周波成分を除去するローパスフィルターとローパスフィルターの出力信号と外部からの設定値を比較する比較器と比較器からの偏差信号により直流電源による印加電圧を制御する印加電圧演算回路から構成された印加電圧制御装置を設けたことを特徴とする静電吸着装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , C23C 14/50 , H01L 21/302 , H01L 21/31

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