特許
J-GLOBAL ID：200903028616540081
パタン形成材料
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-227820
公開番号（公開出願番号）：特開平5-066562
出願日： 1991年09月09日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：
【要約】【目的】活性化学線照射部の水性アルカリ不溶化を抑制し、高感度なポジ型パタン形成材料を得る。【構成】クレゾールノボラック樹脂の70重量部とテトラヒドロピラニル基をもったピロガロール・ホルムアルデヒド樹脂(テトラヒドロピラニル基の導入率50%)の30重量部とピロガロールとメタンスルホン酸の三置換体エステルの5重量部を酢酸メチルセロソルブに溶解してパタン形成材料を得る。このパタン形成材料を基板上に塗布し、照射量を段階的に変化させて電子線照射した後、ベークを施す。この基板を有機アルカリ現像液で現像して照射部を除き、ポジ型パターンを得る。
請求項（抜粋）：
フェノール性水酸基を複数個もった化合物とアルキルスルホン酸とのエステルからなる酸前駆体及び複数個の水酸基をもつ多価フェノールの縮合体又は重合体の水酸基をテトラヒドロピラニル基で置換した化合物を含有することを特徴とするパタン形成材料。
IPC (2件)：
G03F 7/039 501
, H01L 21/027
