特許
J-GLOBAL ID：200903028624194761
カラーフィルタ製造方法およびTFT回路製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
津川 友士
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-048776
公開番号（公開出願番号）：特開平7-261013
出願日： 1994年03月18日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：
【要約】【目的】 カラーフィルタ、TFT回路をフォトリソグラフ法により製造する場合において、現像むらの発生を防止する。【構成】 現像部2と洗浄部4との間にニュートラル部3を設け、ニュートラル部3においてエアーナイフ部3aにより残留する現像液切り処理を行ない、ガラス基板の少なくとも一部が乾燥する前に純水シャワー3bにより純水を散布し、ガラス基板を乾燥させることなく水洗部4に搬送する。
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフ法を用いてガラス基板上にカラーフィルタを製造する方法において、処理液を用いてガラス基板上の膜に対する処理を行なう膜処理部(2)と、膜処理部(2)において付着した処理液を洗い流す洗浄部(4)に接続部(3)を設け、該接続部(3)において、処理液切りの後、ガラス基板の少なくとも一部が乾燥する前にガラス基板に対して液体を付与することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。
IPC (6件)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
, G02F 1/136 500
, H01L 21/304 341
, B08B 3/00
, G03G 15/01 115
